太陽光譜選擇性吸收涂層的沉積方法
一種太陽光譜選擇性吸收涂層的沉積方法，為將基體放置在真空濺射室內(nèi)，以金屬或硅為靶材，使吸收層濺射靶濺射出金屬或硅，在真空濺射室內(nèi)通入反應(yīng)氣體，使金屬或硅及其與反應(yīng)氣體生成的反應(yīng)物的混合物沉積在基體表面，形成吸收層，吸收層厚度為：100-150nm 優(yōu)點(diǎn)是吸收比高、發(fā)射比低、沉積速率快，生產(chǎn)效率高。
一種太陽光譜選擇性吸收涂層的沉積方法，為將基體放置在真空濺射室內(nèi)，以金屬或硅為靶材，使吸收層濺射靶濺射出金屬或硅，在真空濺射室內(nèi)通入反應(yīng)氣體，使金屬或硅及其與反應(yīng)氣體生成的反應(yīng)物的混合物沉積在基體表面，形成吸收層，吸收層厚度為：100-150nm 優(yōu)點(diǎn)是吸收比高、發(fā)射比低、沉積速率快，生產(chǎn)效率高。
版權(quán)所有© 2010 沈陽飾壁涂料科技有限公司
遼ICP備12001352號-1
地址：沈陽市于洪區(qū)平羅鎮(zhèn)新安村郵編：110146 網(wǎng)站制作：易勢科技
電話：024-86552711 13066601158 宋主任 13591472263 汪經(jīng)理 郵箱：shibituliao@163.com網(wǎng)址：http://www.www.o2.net.cn
您是本站第位訪問者
